Pat

J-GLOBAL ID：200903007669112874

基板表面からのレジストの除去方法並びに装置

Inventor： 田中 眞人 ,  永徳 篤郎
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 間宮 武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992135752
Publication number (International publication number)：1993304089
Application date： Apr. 28, 1992
Publication date： Nov. 16, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板の表面からリアクティブ・イオン・エッチング処理後などのレジスト膜を剥離する場合に、1つの処理工程でレジスト及びシリコンの酸化物を同時に基板上から完全に除去できるようにする。【構成】 レジスト膜が被着形成された基板10の表面に無水硫酸16の蒸気とフッ酸20の蒸気を供給する。

Claim (excerpt)：

レジスト膜が被着形成された基板の表面に無水硫酸の蒸気とフッ化水素を含む蒸気とを供給し、基板表面からレジスト膜を剥離させて除去することを特徴とする、基板表面からのレジストの除去方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  C23F 4/00 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/302