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J-GLOBAL ID：200903007708561142

レジスト膜の除去方法及び装置

Inventor： 鈴木 康道
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996022315
Publication number (International publication number)：1997219391
Application date： Feb. 08, 1996
Publication date： Aug. 19, 1997
Summary：

【要約】【課題】エッチング底面へのイオン照射を防止し下地ダメージを発生させることなくイオン打込み等に使用したレジストの除去も容易にする。【解決手段】プラズマを利用してレジストを除去するアッシングにおいて、イオン成分を任意の角度から照射することを特徴とするレジスト膜の除去方法。

Claim (excerpt)：

プラズマを利用してレジストを除去するアッシングにおいて、イオン成分を任意の角度から照射することを特徴とするレジスト膜の除去方法。

IPC (2)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/302 H ,  H01L 21/30 572 A