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J-GLOBAL ID：200903007711125868

トリメチル(エチルシクロペンタジエニル)白金とそ の製造方法及びそれを用いた白金含有薄膜の製造方法

Inventor： 門倉 秀公
Applicant, Patent owner： 株式会社高純度化学研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998129406
Publication number (International publication number)：1999292889
Application date： Apr. 03, 1998
Publication date： Oct. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 半導体装置の電極用薄膜として、Pt膜をCVD法でつくるための室温で液体のPt化合物とその製造方法およびその化合物を用いて膜を作る方法を提供することである。【解決手段】 新規化合物であるトリメチル(エチルシクロペンタジエニル)白金(C2H5C5H4)Pt(CH3)3は、室温で液体であり、35°C付近で充分な蒸気圧を有しているので、CVD原料として、ガスバブリングないし液体マスフローコントローラーにより定量的に供給でき、水素雰囲気下中、150°Cの基板上で熱分解し、純pt薄膜を形成することができた。該化合物は、トリメチルヨード白金とナトリウムエチルシクロペンタジエニドを溶媒中で反応させて高収率で製造できた。

Claim (excerpt)：

トリメチル(エチルシクロペンタジエニル)白金。

IPC (2)：

C07F 15/00 ,  C23C 16/18

FI (2)：

C07F 15/00 F ,  C23C 16/18