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J-GLOBAL ID：200903007717218060

レジストの製造法

Inventor： 金子 ふたみ ,  鍛治 誠 ,  石丸 敏明
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992005582
Publication number (International publication number)：1993191014
Application date： Jan. 16, 1992
Publication date： Jul. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 レーザー走査露光でテンティング法により、レジスト形成する際のスルーホール部のレジスト破れを防止できるレジストの製造法を提供する。【構成】 (a)実質的に光源光に透明なポリマフィルムとその上に設けた光重合性の感光層からなる感光性エレメントをスルーホールを有する銅張積層板の両面に感光層と銅面が接するようにして、真空度200mmHg以下の減圧下で積層する工程、(b)レーザー走査露光により、スルーホール部を含む所望のパターンを露光する工程および(c)現像して未露光の感光層を除去する工程を含むレジストの製造法。

Claim (excerpt)：

(a)実質的に光源光に透明なポリマフィルムとその上に設けた光重合性の感光層からなる感光性エレメントをスルーホールを有する銅張積層板の両面に感光層と銅面が接するようにして、真空度が200mmHg以下の減圧下で積層する工程、(b)レーザー走査露光により、スルーホール部を含む所望のパターンを露光する工程および(c)現像して未露光の感光層を除去する工程を含むレジストの製造法。

IPC (4)：

H05K 3/06 ,  G03F 7/20 ,  G03F 7/26 ,  H05K 3/42

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭52-052703
  
• 特開昭54-089274