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J-GLOBAL ID：200903007717596978

光ディスクの製造方法

Inventor： 中野 淳 ,  姉崎 芳和
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991341938
Publication number (International publication number)：1993159394
Application date： Nov. 30, 1991
Publication date： Jun. 25, 1993
Summary：

【要約】【構成】 記録部上に紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した後、ディスクを回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成する。【効果】 平坦部が広い紫外線硬化樹脂層が形成でき、光磁気ディスクとして摺接記録方式を採用した場合にもユーザエリアを広く採ることが可能な光ディスクが製造できる。

Claim (excerpt)：

透明基板上に形成された光学的に情報の記録及び/又は再生が可能な記録部上に、紫外線硬化樹脂層を形成するに際し、記録部上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布した後、透明基板を回転させながら塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射して紫外線硬化樹脂層を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。

IPC (2)：

G11B 11/10 ,  G11B 7/26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-149953
  
• 特開平2-015441
  
• 特開平1-286146
  
• 特開平4-310647