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J-GLOBAL ID:200903007734680222
新規なポリマー及びそれらを含有してなるフォトレジスト組成物
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐伯 憲生
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999283271
Publication number (International publication number):2000298347
Application date: Aug. 30, 1999
Publication date: Oct. 24, 2000
Summary:
【要約】【課題】 新規なポリマー及びこのポリマーを樹脂バインダー成分として含むフォトレジスト組成物を提供することにある。本発明のフォトレジスト組成物は193nm及び248nmを含む短波長に露光することで解像力の高いレリーフ像を与えることが可能である。本発明のレジストはまた、365nmなどの他の波長でのイメージングにも有用である。【解決手段】 本発明のポリマーには、約5個以上の炭素原子及び少なくとも2個の第二級、第三級又は第四級炭素原子を有するアルキル部からなるエステル基である光酸発生不安定単位を含むポリマーが包含される。エステル基のアルキル部は非環式又は単環脂環式基であってもよい。エステル基のカルボニル酸素(C=O(O))は、好ましくは、第四級炭素原子に直接的に結合していることが多い。
Claim (excerpt):
光活性成分及びエステル基の繰り返し単位を含むポリマーからなる樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物であって、エステル基がカルボニル及びカルボキシル酸素原子を有し、少なくとも2個が第二級、第三級又は第四級炭素原子である約5個以上の炭素原子を有する任意に置換された非環状又は単環環式アルキル部を含み、かつエステル基カルボキシル基が第四級炭素原子に直接的に結合しているフォトレジスト組成物。
IPC (6):
G03F 7/039 601
, C08L 33/08
, C08L 33/10
, H01L 21/027
, C07C 67/14
, C07C 69/54
FI (7):
G03F 7/039 601
, C08L 33/08
, C08L 33/10
, C07C 67/14
, C07C 69/54 Z
, C07C 69/54 B
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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パターン形成材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-275149
Applicant:三菱電機株式会社
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-261054
Applicant:日本ゼオン株式会社
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新規ポリマー及びこれを用いたレジスト組成物並びにこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-257672
Applicant:和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-033958
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-119772
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-119773
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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