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J-GLOBAL ID：200903007767302770
微細パターンの印刷法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
前島 肇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994261999
Publication number (International publication number)：1996099476
Application date： Sep. 29, 1994
Publication date： Apr. 16, 1996
Summary：
【要約】【目的】 凹版の凹部にインキを充填した後、インキを被印刷体に転移させてパターンを印刷する凹版印刷方法において、インキの離型性、パターンの再現性、および耐刷性を向上させて精度の高い印刷を実現する。【構成】 凹版印刷方法において、環状構造を有する非晶質フッ素化合物を使用して、凹版の少なくとも凹部の表面に離型性のフッ素樹脂層を形成する。
Claim (excerpt)：
印刷画線部となるパターン凹部を設けた凹版の少なくとも凹部の表面に、凹版と接着する離型性の樹脂層を形成し、その凹版にインキを充填し、被印刷体に直接あるいは中間介在物を介して転写する印刷方法において、前記離型性の樹脂層が環状構造を有する非晶質フッ素樹脂を含む組成物からなることを特徴とする微細パターンの印刷法。
IPC (3)：
B41N 1/06
, B41M 1/10
, B41M 3/06
