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J-GLOBAL ID:200903007771522220

光パルス発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 古谷 史旺
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996041940
Publication number (International publication number):1997236834
Application date: Feb. 28, 1996
Publication date: Sep. 09, 1997
Summary:
【要約】【課題】 外部変動によるSC光パルスの偏光状態の変化を防ぐ。【解決手段】 SC光パルスを発生するパルス光源、光増幅器、非線形光学媒質、光バンドパスフィルタ、分散補償器が、光パルスの偏光方向を保持し、これらの光学主軸をすべて平行または直交に結合する。
Claim (excerpt):
所定の繰り返し周波数の光パルスを発生するパルス光源と、前記光パルスを増幅する光増幅器と、増幅された光パルスをスーパーコンティニアム(以下「SC」という。)光パルスに変換する非線形光学媒質と、前記SC光パルスのスペクトル中の所定の波長域を切り取る光バンドパスフィルタと、前記SC光パルスのチャーピングを補償する分散補償器とを備えた光パルス発生装置において、前記パルス光源、光増幅器、非線形光学媒質、光バンドパスフィルタ、分散補償器を偏光保持型とし、それぞれの光学主軸をすべて平行または直交に結合した構成であることを特徴とする光パルス発生装置。
IPC (2):
G02F 1/35 ,  H04B 10/00
FI (2):
G02F 1/35 ,  H04B 9/00 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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