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J-GLOBAL ID：200903007778923912

新しいAlF3 系フツ化物ガラス

Inventor： 王 宇湖
Applicant, Patent owner： 株式会社住田光学ガラス
Agent (1)： 内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991217257
Publication number (International publication number)：1993058672
Application date： Aug. 28, 1991
Publication date： Mar. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明は、可視光から赤外線を透過し、機械的強度、化学的耐久性がZBLANよりかなり優れ、希土類イオンも多量に導入することが可能で、しかも結晶化しにくい安定なフッ化物ガラスを提供することを目的とする。【構成】上記目的は、モル%でPbF2 3〜45%、AlF3 5〜37%、YbF3 14〜37%、ZnF2 3〜22%、BaF2 3〜22%、ZrF4 0〜32%、CaF2 0〜16%、MgF2 0〜5%、MnF2 0〜10%、LaF3 0〜7%、LiF又はNaF0〜6%を含有することを特徴とする赤外線透過フッ化物ガラスによって効果的に達成することができる。

Claim (excerpt)：

モル%でPbF2 3〜45%、AlF3 5〜37%、YbF3 14〜37%、ZnF2 3〜22%、BaF2 3〜22%、ZrF4 0〜32%、CaF2 0〜16%、MgF2 0〜5%、MnF2 0〜10%、LaF3 0〜7%、LiF又はNaF0〜6%を含有することを特徴とする赤外線透過フッ化物ガラス。

IPC (2)：

C03C 4/10 ,  C03C 3/32