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J-GLOBAL ID：200903007783792400

含フツ素ポリイミド前駆体組成物および含フツ素ポリイミドのパターン製造法

Inventor： 児嶋 充雅 ,  柴田 貴子 ,  関根 浩良 ,  佐藤 任廷
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991182764
Publication number (International publication number)：1993025387
Application date： Jul. 24, 1991
Publication date： Feb. 02, 1993
Summary：

【要約】【構成】 (A)カルボン酸二無水物とジアミンとから得られる一般式(1)【化1】(式中、R1は4価の有機基、R2は2価の有機基、nは1以上の整数を示し、R1およびR2の少なくとも一方はフッ素原子を有する)で表わされるポリアミド酸と(B)熱により重合が可能な炭素-炭素二重結合を有するアミン化合物とを含有してなる含フッ素ポリイミド前駆体組成物ならびにこの組成物を用いた含フッ素ポリイミドのパターン製造法。【効果】 この組成物により、耐溶剤性に優れ、かつアルカリ水溶液によるエッチングが可能な被膜が得られるため、パターンの製造に際し、現像とエッチングを同時に行うことができるとともに、耐溶剤性に優れ、誘電率の低いポリイミドのパターンが得られる。

Claim (excerpt)：

(A)カルボン酸二無水物とジアミンとから得られる一般式(1)【化1】(式中、R1は4価の有機基、R2は2価の有機基、nは1以上の整数を示し、R1およびR2の少なくとも一方はフッ素原子を有する)で表わされるポリアミド酸と(B)熱により重合が可能な炭素-炭素二重結合を有するアミン化合物とを含有してなる含フッ素ポリイミド前駆体組成物。

IPC (4)：

C08L 79/08 LRC ,  H01L 21/312 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/038 504