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J-GLOBAL ID：200903007796669705

光導波路成膜装置

Inventor： 福山 聡
Applicant, Patent owner： 東芝機械株式会社
Agent (1)： 三好 秀和 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995062569
Publication number (International publication number)：1996262251
Application date： Mar. 22, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 効率のよい光導波路成膜装置を提供する。【構成】 赤外光レーザ発生器57が1μm 以下の波長のレーザ光を照射し、光学系59が前記照射されたレーザ光を均一にする。この均一にされたレーザ光は光導波路パターンを描画されたマスク55を通りウエハ23に前記光導波路のパターンを投影する。ウエハ23は、内部の気密を保持するチャンバ3内のステージ21上に置かれており、前記レーザ光はチャンバ3の光導入窓11から照射される。ウエハ23が置かれているステージ21には冷却装置25が設けられておりこれによりウエハ23を冷却する。また、二組以上のガス供給管31,35がウエハ23に向かって少なくとも二種類のガスを供給し、プラズマ発生用の高周波電源51およびマッチングボックス49により高周波電力を供給されるアンテナ41がプラズマを発生する。

Claim (excerpt)：

1μm 以下の波長のレーザ光を照射する赤外光レーザ発生器と、この赤外光レーザ発生器からのレーザ光を光導波路が成膜される平板状ワークに均一に照射すべく設けられた光学系と、この光学系からのレーザ光により前記平板状ワークに光導波路パターンを投影すべく設けられたマスクと、プラズマ発生用の高周波電源およびマッチングボックスと、前記レーザ光を導入する光導入窓を備えると共に内部の気密を保持するチャンバとを有し、前記チャンバが、前記平板状ワークを載置固定するステージと、このステージを冷却する冷却手段と、前記平板状ワークに向かって少なくとも二種類のガスを供給する二組以上のガス供給管と、前記高周波電源によりプラズマを発生するアンテナと、を備えてなることを特徴とする光導波路成膜装置。

IPC (6)：

G02B 6/13 ,  C23C 16/48 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (6)：

G02B 6/12 M ,  C23C 16/48 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 C ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B