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J-GLOBAL ID：200903007796785560

有機物含有水の処理方法

Inventor： 矢萩 捷夫 ,  渡辺 昭二 ,  馬場 研二 ,  依田 幹雄 ,  原 直樹 ,  田中 潤郎
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995175834
Publication number (International publication number)：1997024390
Application date： Jul. 12, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】【構成】最初沈殿池10,微生物反応槽11,最終沈殿池12,オゾン発生機13,一次処理水用オゾン接触槽14,二次処理水用オゾン接触槽15,排オゾンガス処理器16による有機物含有水の処理方法。【効果】有機物含有水の処理方法により、放流水質の安定化が出来、水圏環境改善に効果がある。

Claim (excerpt)：

有機物を含有する原水の全量もしくは一部をオゾン酸化処理した後に生物処理し、該生物処理工程の全量もしくは一部を、再度、オゾン酸化処理する方法において、前記原水をオゾン酸化処理するために使用した後の、排オゾンガスを、前記生物処理工程の流出水のオゾン酸化処理用のガスとして使用することを特徴とする有機物含有水の処理方法。

IPC (6)：

C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  C02F 9/00 ,  C02F 1/78 CDV

FI (6)：

C02F 9/00 501 A ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 503 C ,  C02F 9/00 504 A ,  C02F 9/00 504 E ,  C02F 1/78 CDV