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J-GLOBAL ID：200903007799081733

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

Inventor： 田坂 健司 ,  千葉 拓 ,  東 和文 ,  稲葉 宏 ,  田村 利夫 ,  脇 義晴
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 富田 和子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998002394
Publication number (International publication number)：1999203625
Application date： Jan. 08, 1998
Publication date： Jul. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】MR素子の腐食を防止し、かつ、保護膜の膜厚を低減することのできる薄膜磁気ヘッドの構成を提供する。【解決手段】MR素子の腐食発生率は、この表面粗さが、2.0nm以下になると急速に低減することを見いだした。よって、磁気ヘッド浮上面の研磨工程において、定盤に粒径1/10μm以下の砥粒を埋め込んだ固定砥粒定盤を用いることにより、浮上面の表面粗さを磁性膜の部分においてRmaxで2.0nm以下にする。これにより、浮上面上に形成する保護膜の厚さを7nm以下にしても、MR素子の腐食の発生を防止することができる。

Claim (excerpt)：

基板と、前記基板上に搭載された薄膜磁気変換素子とを有し、前記基板および前記薄膜磁気変換素子の端面は、磁気記録媒体と対向する浮上面を構成し、前記薄膜磁気変換素子は、1以上の磁性膜を有し、前記浮上面の表面粗さは、前記磁性膜の端面において、Rmaxで2nm以下であり、前記浮上面の上には、膜厚7nm以下の保護膜が配置されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

IPC (4)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/39 ,  G11B 5/60 ,  G11B 21/21 101

FI (5)：

G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 K ,  G11B 5/39 ,  G11B 5/60 C ,  G11B 21/21 101 L

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 研磨方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-091405   Applicant：松下電器産業株式会社
• 特開昭62-292358
  
• 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-104371   Applicant：日本電気株式会社