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J-GLOBAL ID:200903007816260825

極性溶剤中でイオン交換触媒を用いてノボラック樹脂中の金属イオンを減少する方法、及びそれから得られるフォトレジスト組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 江崎 光史 (外2名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1996521104
Publication number (International publication number):1998512970
Application date: Dec. 21, 1995
Publication date: Dec. 08, 1998
Summary:
【要約】本発明は、処理されたアニオン及びカチオン交換樹脂を利用する、極めて低レベルで金属イオンを有する水不溶性でかつ水性アルカリ可溶性のフィルム形成性ノボラック樹脂を製造する方法を提供する。このノボラックから極めて低レベルの金属イオンを有するフォトレジスト組成物を製造する方法及びこのフォトレジスト組成物を用いる半導体デバイスの製造方法も提供される。
Claim (excerpt):
水不溶性でかつ水性アルカリ可溶性のフィルム形成性ノボラック樹脂の製造方法であって、 a)アニオン交換樹脂を脱イオン水で洗浄し、このアニオン交換樹脂を鉱酸溶液で洗浄し、このアニオン交換樹脂を再び脱イオン水で洗浄し、このアニオン交換樹脂を水酸化アンモニウムで洗浄し、このアニオン交換樹脂を再び脱イオン水で洗浄することによって、このアニオン交換樹脂中のナトリウム及び鉄イオンのレベルをそれぞれ200ppb未満にまで減らし; b)カチオン交換樹脂を脱イオン水で洗浄し、このカチオン交換樹脂を鉱酸溶液で洗浄し、このカチオン交換樹脂を脱イオン水で洗浄することによって、このカチオン交換樹脂中のナトリウム及び鉄イオンのレベルをそれぞれ200ppb未満にまで減らし; c)2:1〜1:2の溶剤比における極性有機溶剤と非極性有機溶剤との混合物中のノボラック樹脂の溶液を調製し、この溶液を0.04〜0.5ミクロンの孔サイズを有するフィルターに通し、この溶液を上記アニオン交換樹脂に通すことによってこの溶液中のナトリウム及び鉄イオンのレベルをそれぞれ200ppb未満にまで減らし; d)この溶液を上記カチオン交換樹脂に通し次いで極性溶剤を留去して、それぞれ100ppb未満のナトリウム及び鉄イオン含有率を有する非極性溶剤中のノボラック樹脂の溶液を得る、ことからなる上記方法。
IPC (2):
G03F 7/023 ,  H01L 21/027
FI (2):
G03F 7/023 ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平1-228560
  • 特開平1-258749
  • 特開昭51-041791
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