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J-GLOBAL ID：200903007817783996

異物とパターンの弁別閾値設定方法

Inventor： 神宮 孝広 ,  近松 秀一
Applicant, Patent owner： 日立電子エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 梶山 佶是 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993309913
Publication number (International publication number)：1995140082
Application date： Nov. 16, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 異物検査装置に対して、被検査物に形成されたパターン配線と、付着した異物とを的確に弁別する閾値を設定する。【構成】 異物が付着していないテストサンプルと、2種類以上の直径の標準粒子の両受光電圧vS,vP を測定して、その2次元分布図を作成し、標準粒子群の分布領域とパターン配線の分布領域を区分する境界線を設定し、これを被検査物の異物とパターン配線とを弁別する閾値とする。【効果】 目的が達成される。

Claim (excerpt)：

パターン配線が形成された被検査物の表面に対して、S偏光波とP偏光波のレーザスポットを照射し、前記パターン配線と、該表面に付着した異物とによる該レーザスポットの反射光を、S偏光成分とP偏光成分に区別して2個の受光器により受光し、該両受光器が出力する該S偏光成分の受光電圧vS と、該P偏光成分の受光電圧vP とを比較し、適当な閾値により前記パターン配線を除き前記異物を検出する異物検査装置において、前記異物が付着してない清浄な前記被検査物のテストサンプルを前記異物検査装置に装着して、該テストサンプルのパターン配線の前記両受光電圧vS,vP を測定し、該測定された両受光電圧vS,vP 、の2次元分布図を作成し、かつ、前記異物の大きさに相当する、すくなくとも2種類の直径を有するそれぞれ複数個の標準粒子について、該種類別にそれぞれの前記両受光電圧vS,vP を測定して該2次元分布図にプロットし、該標準粒子群と前記パターン配線の両者の分布領域を区分する境界線を設定し、該境界線を前記被検査物の異物とパターン配線とを弁別する閾値とすることを特徴とする、異物とパターンの弁別閾値設定方法。

IPC (4)：

G01N 21/88 ,  G01B 11/24 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66

FI (2)：

G06F 15/62 405 A ,  G06F 15/70 455 Z