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J-GLOBAL ID：200903007836140974
イオンプレーティング法による窒化チタン膜の被覆方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
丸岡 裕作
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993307626
Publication number (International publication number)：1995157869
Application date： Dec. 08, 1993
Publication date： Jun. 20, 1995
Summary：
【要約】【目的】 色彩の幅を大きくし微妙な色彩の変化を容易に得ることができるようにし、色彩選択の自由度を大きくする。【構成】 真空チャンバ内で、窒素ガスを供給しながら、チタンを蒸発させ、金属材料に窒化チタン膜を蒸着する窒化チタン膜の被覆方法において、上記供給する窒素ガス濃度を、経時的に変化させる。そして、窒素ガス濃度は、順次高くなる傾斜変化とした。窒素ガス濃度が経時的に変化すると、チタン単体及び窒化チタンの組成が変化することから、蒸着される窒化チタン膜の組成が段階的あるいは連続的に層状に変化する。窒化チタン膜の組成が異なると色彩が異なり、この異なった色彩の相が多層に重なるので、表面に現われる色彩が、単層膜の場合とは異なった色彩を呈する。即ち、全体では、金色を呈するが、その色相,明度や彩度が微妙に異なり、窒素ガス濃度の経時的変化のさせ方により、種々の色彩を得ることができるようになる。
Claim (excerpt)：
真空チャンバ内で、窒素ガスを供給しながら、チタンを蒸発させ、金属材料に窒化チタン膜を蒸着するイオンプレーティング法による窒化チタン膜の被覆方法において、上記供給する窒素ガス濃度を、経時的に変化させることを特徴とするイオンプレーティング法による窒化チタン膜の被覆方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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