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J-GLOBAL ID：200903007899667220
薄膜作製方法およびその装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996099835
Publication number (International publication number)：1997287068
Application date： Apr. 22, 1996
Publication date： Nov. 04, 1997
Summary：
【要約】【課題】薄膜を作製すべき基板と強磁性材料金属元素を含有するターゲットの間の空間、あるいは基板の近く、あるいはターゲットの近くの位置に、微粒子を吸引するための磁界を印加する。【解決手段】レーザ光を強磁性材料金属元素を含有するターゲットに照射し、上記ターゲットをアブレーションさせて発生する粒子により薄膜を形成する薄膜作製方法において、上記薄膜を作製すべき基板と上記ターゲットの間の空間、あるいは上記基板の近く、あるいはターゲットの近くの位置に、磁界を印加した。
Claim (excerpt)：
レーザ光を強磁性材料金属元素を含有するターゲットに照射し、上記ターゲットをアブレーションさせて発生する粒子により薄膜を形成する薄膜作製方法において、上記薄膜を作製すべき基板と上記ターゲットの間の空間、あるいは上記基板の近く、あるいはターゲットの近くの位置に、磁界を印加したことを特徴とする薄膜作製方法。
IPC (2)：
FI (2)：
C23C 14/28
, C23C 14/35 C
