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J-GLOBAL ID:200903007944454438
新規ポリイミドおよびポジ型感光性樹脂組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003032332
Publication number (International publication number):2004238591
Application date: Feb. 10, 2003
Publication date: Aug. 26, 2004
Summary:
【課題】保存安定性に優れ、高解像度のパターン形成性を有し、かつ強度、耐熱性等の物性に優れたポリイミド膜を形成することのできる、ポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(a)一般式(I)(化1)【化1】(式中nは1<n<99の範囲内の有理数であり、樹脂中の共重合比を示す。R1及びR2は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数1〜20のアルキル基を表し、R3はスルホン酸基および/またはスルホン酸基の有機塩基塩を少なくとも一つ以上有する2価の芳香族基を表す。Zは単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、および芳香族基が直接または架橋員により相互に連結された非縮合多環式芳香族基からなる群より選ばれた4価の基を表す。)で表される繰り返し単位を有するポリイミド、及び(b)感光剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物である。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
一般式(I)(化1)
IPC (2):
FI (2):
C08G73/10
, G03F7/037 501
F-Term (44):
2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AA11
, 2H025AA13
, 2H025AA20
, 2H025AB15
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB25
, 2H025CB41
, 2H025CB42
, 2H025FA17
, 4J043PA05
, 4J043PC186
, 4J043QB31
, 4J043RA35
, 4J043SA06
, 4J043SB03
, 4J043TA14
, 4J043TA22
, 4J043TB01
, 4J043UA121
, 4J043UA122
, 4J043UA131
, 4J043UA132
, 4J043UA152
, 4J043UA241
, 4J043UA261
, 4J043UA262
, 4J043UB012
, 4J043UB022
, 4J043UB062
, 4J043UB121
, 4J043UB122
, 4J043UB152
, 4J043UB281
, 4J043UB282
, 4J043UB302
, 4J043UB401
, 4J043UB402
, 4J043YA06
, 4J043ZB50
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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ポジ型感光性ポリイミド樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-095163
Applicant:日産化学工業株式会社
-
ポジ型感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-365171
Applicant:大日本印刷株式会社
-
ポリイミドおよびポリアミド酸
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-127671
Applicant:三井化学株式会社
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