Pat
J-GLOBAL ID：200903007960639286
イオン源
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
原 謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993010818
Publication number (International publication number)：1994223758
Application date： Jan. 26, 1993
Publication date： Aug. 12, 1994
Summary：
【要約】【構成】 イオン源は、プラズマチャンバー3内で動作ガスをイオンと電子とに分離してプラズマを生成させ、上記プラズマ中のイオンを引き出してイオンビーム14を生成するものである。プラズマチャンバー3内には、プラズマ中のイオンおよび電子によりスパッタリングされた際に、プラズマ中のイオンと同一のイオンのみを生成させるコーティング層を有したライナー5...、ウインドウ11、およびシールド16が設けられている。【効果】 スパッタリングされたライナー5等のコーティング層からは、プラズマ中のイオンと同一のイオンのみが生成されるため、プラズマ中のイオンの種類が増加することがない。よって、イオン源は、目的とする種類のイオンにイオンビーム14を質量分析する際の困難化が防止できることになる。
Claim (excerpt)：
遮蔽部材が設けられたプラズマチャンバー内で動作ガスをイオンと電子とに分離してプラズマを生成させ、上記プラズマ中のイオンを引き出してイオンビームを生成するイオン源において、上記遮蔽部材は、上記プラズマ中のイオンおよび電子によりスパッタリングされた際に、上記プラズマ中のイオンと同一のイオンのみを生成させるコーティング層を有していることを特徴とするイオン源。
IPC (2)：
Return to Previous Page
