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J-GLOBAL ID：200903008004318451
イオン源
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
成田 擴其
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991311456
Publication number (International publication number)：1993128984
Application date： Oct. 31, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：
【要約】【目的】 水素化物ガスを用いるイオン源において、水素またはヘリウムイオンの引出しを防止すること。【構成】 プラズマ室1には、導入口3から水素またはヘリウムで希釈された水素化物ガスが供給される。引出し電極系の引出し電極4の直上に、ビーム引出し孔の位置を避けてマグネット17を配置し、電極面にそって磁界(50ないし500ガウス)を生じさせる。高周波電源15から上部室壁2と引出し電極間に高周波電力を供給し、ガスを放電させてプラズマを生成する。水素またはヘリウムイオンは磁界で捕捉されてその引出しが抑制され、所要の元素、分子のイオンビームのみを引出すことができる。
Claim (excerpt)：
イオン源ガスとして水素化物ガスを用いるイオン源において、高周波あるいはマイクロ波電力による放電機構と、引出し電極の近傍のプラズマ室内に配置されて電極面に沿った磁界を発生させる複数個のマグネットとを備えてなることを特徴とするイオン源。
IPC (4)：
H01J 37/08
, C23C 14/48
, H01J 37/317
, H01L 21/265
