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J-GLOBAL ID：200903008008171854

高活性光触媒の製造方法及びその高活性光触媒を用いた硫化水素の処理方法

Inventor：
田路 和幸

About 田路 和幸

, 
粕谷 厚生

About 粕谷 厚生


Applicant, Patent owner：
科学技術振興事業団

About 科学技術振興事業団


Agent (1)： 舘野 千惠子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001112293
Publication number (International publication number)：2002306966
Application date： Apr. 11, 2001
Publication date： Oct. 22, 2002
Summary：
【要約】【課題】 硫化水素に作用して硫黄と水素を発生させる高活性光触媒を得る。【解決手段】 硫化亜鉛等の金属硫化物を酸化性雰囲気または所定の酸化剤で酸化処理することで高活性光触媒が得られる。この高活性光触媒を用いた硫化水素の処理方法は、硫化水素溶解槽1にて例えば水酸化ナトリウム水溶液に硫化水素ガスを溶解させ硫化ナトリウム溶液とする硫化水素溶解工程と、光触媒反応槽3にて硫化ナトリウム溶液に高活性光触媒を添加して紫外線照射により水素ガスとポリ硫化物イオンを生成し、水素ガスを回収する水素回収工程と、硫黄回収槽5にてポリ硫化物イオンから硫黄を回収し、硫黄回収後の溶液を硫化水素溶解工程に再利用するべく硫化水素溶解槽1に再循環する硫黄回収工程とで構成される。
Claim (excerpt)：
金属硫化物を酸化性雰囲気中で焼成してなることを特徴とする高活性光触媒の製造方法。
IPC (6)：
B01J 27/04 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/12 ,  B01J 37/14 ,  C01B 3/04 ,  C01B 17/04
FI (6)：
B01J 27/04 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/12 ,  B01J 37/14 ,  C01B 3/04 Z ,  C01B 17/04 R
F-Term (15)：
4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB09A ,  4G069BB09B ,  4G069BC35A ,  4G069BC35B ,  4G069BC36A ,  4G069BC37A ,  4G069CB81 ,  4G069FA01 ,  4G069FB40 ,  4G069FB41
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
  • 特公平2-055373
  • 特公平2-055373
  • 新規なZnS光触媒,その製法およびそれを用いた水素の製造方法
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-517407   Applicant：コリアリサーチインスティテュートオブケミカルテクノロジー
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