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J-GLOBAL ID：200903008009028621

トランス

Inventor： 内山 倫行 ,  萩原 修哉 ,  黒沢 巴 ,  斉藤 達
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991279673
Publication number (International publication number)：1993121249
Application date： Oct. 25, 1991
Publication date： May. 18, 1993
Summary：

【要約】【目的】大容量化が可能で、かつ漏れインダクタンスや損失を小さくすることを可能とする。【構成】一次側の導体膜の一次コイル5a〜5nを同一平面内に複数個形成し、かつこれらのコイル5a〜5nを第1の接続用導体膜の一次側の接続用導体10a〜10mによって直列に接続し、二次側の導体膜の二次コイル6a〜6nを一次側の導体膜の一次コイル5a〜5nにそれぞれ近接して複数個形成し、かつこれらの導体膜の二次コイル6a〜6nを第2の接続用導体膜の二次側の接続用導体11a〜11n、11′a〜11′nおよび12a、12bによって並列に接続したことを特徴とする。【効果】必要な容量のトランスを構成することができ、隣接する導体を流れる電流により生じる磁界が相殺されるように導体を配置できるようになる。

Claim (excerpt)：

基板上に、コアを構成する磁性膜と、コイルを構成する一次側および二次側の導体膜と、絶縁層を構成する絶縁膜とを積層してなるトランスにおいて、前記一次側の導体膜を同一平面内に複数個形成し、かつこれらの導体膜を第1の接続用導体膜によって直列に接続し、前記二次側の導体膜を前記一次側の導体膜にそれぞれ近接して複数個形成し、かつこれらの導体膜を第2の接続用導体膜よって並列に接続し、前記第1、第2の接続用導体膜に第1、第2の接続用端子を設けたことを特徴とするトランス。

IPC (2)：

H01F 27/28 ,  H01F 27/34