Pat

J-GLOBAL ID：200903008086060732

ガス溶解水製造装置およびガス溶解水製造方法ならびに洗浄装置

Inventor： 芳賀 宣明 ,  三森 健一 ,  笠間 泰彦
Applicant, Patent owner： 株式会社フロンテック ,  オルガノ株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外8名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999190998
Publication number (International publication number)：2001017844
Application date： Jul. 05, 1999
Publication date： Jan. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】 簡単な装置構成により立ち上がり時間を短く、ガスや溶媒の使用量を削減し得るガス溶解水製造装置とガス溶解水の製造方法、ならびにこれを用いた洗浄装置を提供する。【解決手段】 本発明のオゾン水製造装置1は、オゾンガスと純水とを接触させるてオゾン水を生成するガス溶解モジュール3と、オゾンガス発生装置2からのオゾンガスをガス溶解モジュール3に流すガス導入用配管4と、ガス導入用配管4の途中に接続され、オゾンガスを一時貯留した後にガス導入用配管4に向けて排出するバッファ5と、ガス導入用配管4を開放、閉止してガス溶解モジュール3へのガスの導入、停止を切り換える第1のバルブ6と、バッファ5から排出された貯留ガスの逆流を防止する逆止弁7とを有している。

Claim (excerpt)：

ガス溶解水の原料となるガスと溶媒とが導入され、これらガスと溶媒とを接触させることにより前記ガスを前記溶媒中に溶解させるガス溶解手段と、ガス供給源から前記ガス溶解手段に向けて前記ガスを流すガス導入路と、該ガス導入路の途中に接続され、前記ガスを一時貯留するとともに所定量のガスを貯留した後に該貯留ガスを前記ガス導入路に向けて排出するガス貯留手段と、前記ガス導入路上の前記ガス貯留手段との接続位置ないし該接続位置よりも前記ガス溶解手段寄りの位置に設けられ、前記ガス導入路を開放または閉止することにより前記ガス溶解手段への前記ガスの導入、停止を切り換える切換手段と、前記ガス導入路上の前記ガス貯留手段との接続位置ないし該接続位置よりも前記ガス供給源寄りの位置に設けられ、前記ガス貯留手段から排出された貯留ガスの前記ガス供給源側への逆流を防止する貯留ガス逆流防止手段とを有することを特徴とするガス溶解水製造装置。

IPC (4)：

B01F 1/00 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304

FI (4)：

B01F 1/00 A ,  B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 648 L

F-Term (11)：

3B201AA01 ,  3B201AB23 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  4G035AA01 ,  4G035AE01 ,  4G035AE13