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J-GLOBAL ID:200903008113443665
可変インダクタ
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (2):
石原 昌典
, 生井 和平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003294040
Publication number (International publication number):2005064308
Application date: Aug. 18, 2003
Publication date: Mar. 10, 2005
Summary:
【課題】半導体基板上に形成可能であり、Q値の劣化が少なく、インダクタンスの変化量が大きい可変インダクタを提供する。【解決手段】半導体処理工程により半導体基板1上にスパイラルインダクタ2が形成される。インダクタ2の磁束4を変化させることが可能な位置に、磁束可変手段である導体板3と、それを移動させるためのアクチュエータとを配置する。アクチュエータを用いて、インダクタの例えば上方近傍で導体板を水平移動させることで、磁束を変化させる。また、2段インダクタの間で導体板を水平移動させてインダクタンスを変化させることも可能である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
半導体基板上に形成される可変インダクタであって、該可変インダクタは、
半導体処理工程により前記半導体基板上に形成されるインダクタと、
前記インダクタの磁束を変化させることが可能な位置に設けられる磁束可変手段と、
を具備することを特徴とする可変インダクタ。
IPC (3):
H01F21/06
, H01L21/822
, H01L27/04
FI (2):
H01F21/06 E
, H01L27/04 L
F-Term (3):
5F038AZ05
, 5F038AZ10
, 5F038EZ20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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可変インダクタンス素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-104790
Applicant:株式会社村田製作所
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チップ型可変インダクタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-271176
Applicant:株式会社村田製作所
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可変インダクタンス素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-025932
Applicant:株式会社村田製作所
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可変インダクタを備える物品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-213586
Applicant:ルーセントテクノロジーズインコーポレーテッド
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可変インダクタ及びそれを用いた半導体集積回路
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-300483
Applicant:株式会社日立製作所
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Cited by examiner (5)
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プリント配線型インダクタンス素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-180494
Applicant:日本航空電子工業株式会社
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特表昭62-501810
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コイル部品およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-007054
Applicant:松下電器産業株式会社
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集積半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-280162
Applicant:株式会社トーキン
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特表昭62-501810
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