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J-GLOBAL ID：200903008114001666

化粧料

Inventor： 河内 洋一 ,  足立 明彦 ,  朝倉 孝幸
Applicant, Patent owner： 株式会社ナリス化粧品
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999082149
Publication number (International publication number)：2000239118
Application date： Feb. 18, 1999
Publication date： Sep. 05, 2000
Summary：

【要約】【課題】化粧料の菌汚染原因となる細菌、かび、酵母等の菌種を問わず、かつ化粧料の物性、化学的組成による影響を受けにくく、しかも安全性に優れた化粧料組成物を提供する。【解決手段】ポリリジンと2価アルコール類を配合することで、化粧料の汚染原因となる細菌、かびおよび酵母等の菌種に対して高い抗菌効果を有し、且つ化粧料の物性、化学的組成等の影響を受ない化粧料組成物が得られた。しかも、比較的少量の配合で化粧料に対しての高い防腐効果が得られるため、安全性に優れた化粧料組成物であった。

Claim (excerpt)：

ポリリジンと、2価アルコール類を配合することを特徴とする化粧料組成物。

F-Term (22)：

4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB432 ,  4C083AC072 ,  4C083AC111 ,  4C083AC121 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC352 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC582 ,  4C083AC712 ,  4C083AC792 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083AD411 ,  4C083AD412 ,  4C083CC05 ,  4C083CC11 ,  4C083EE09 ,  4C083EE50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 抗菌剤及びこれを含有して成る抗菌性化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-318626   Applicant：株式会社ノエビア
• 特開昭61-243010