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J-GLOBAL ID：200903008152860826
触媒化学蒸着装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
保立 浩一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997221008
Publication number (International publication number)：1999054441
Application date： Aug. 01, 1997
Publication date： Feb. 26, 1999
Summary：
【要約】【課題】 触媒化学蒸着法により薄膜を作成する実用的な装置を提供する。【解決手段】 排気系11によって排気される成膜チャンバー1内には、成膜する基板9を保持する基板ホルダー4と、基板9が配置された空間に対して隔絶された内部空間に熱触媒体3が配置される触媒容器5とが設けられる。ガス供給手段2は、ヒータ電源31によって所定温度に加熱維持された熱触媒体3に接触させるようにして原料ガスを供給し、原料ガスの熱触媒体3との触媒反応により生成された化学種がガス吹き出し孔50から吹き出して基板9の表面に供給され、所定の薄膜が堆積する。基板9以外の成膜チャンバー1内の露出部分に対する膜堆積が抑えられるとともに、熱触媒体3による基板9の加熱が抑制される。
Claim (excerpt)：
所定温度に加熱維持された熱触媒体に接触させるように原料ガスを供給し、原料ガスが熱触媒体と接触することによって生成された化学種を基板の表面に供給して当該表面に所定の薄膜を堆積させる触媒化学蒸着装置であって、内部に前記熱触媒体が配置される触媒容器と、当該触媒容器内に所定の原料ガスを供給するガス供給手段とを備えており、当該触媒容器は、その内部空間が前記基板が配置された空間に対して隔絶されているとともに前記基板を臨む場所にガス吹き出し部を有しており、前記熱触媒体との接触によって生成された化学種が、触媒容器内の空間と前記基板が配置された空間との差圧によってガス吹き出し部から吹き出して前記基板に供給されるようになっていることを特徴とする触媒化学蒸着装置。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/205
, C23C 16/44 D
, C23C 16/44 A
Cited by examiner (8)
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