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J-GLOBAL ID：200903008168062334

酸化物超電導膜の製造方法

Inventor： 藤野 剛三 ,  高野 悟 ,  葭田 典之 ,  原 築志 ,  石井 英雄
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社 ,  東京電力株式会社
Agent (1)： 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992203860
Publication number (International publication number)：1994052742
Application date： Jul. 30, 1992
Publication date： Feb. 25, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 優れた特性の酸化物超電導膜を得ることができる、レーザアブレーション法を用いる酸化物超電導膜の製造方法を提供する。【構成】 YSZ(イットリア安定化ジルコニア)またはMgO(酸化マグネシウム)をターゲット4として用い、レーザ発振装置1から発振されるレーザ光によってアブレーションが生じ、粒子5が、10mTorr以下の酸素雰囲気下で基板6上に中間層を形成するステップと、中間層上に酸化物超電導膜を形成するステップとを備える。

Claim (excerpt)：

レーザアブレーション法を用いる酸化物超電導膜製造方法であって、YSZ(イットリア安定化ジルコニア)またはMgO(酸化マグネシウム)をターゲットとして用い、10mTorr以下の酸素雰囲気下で基板上に中間層を形成するステップと、前記中間層上に酸化物超電導膜を形成するステップとを備える、酸化物超電導膜製造方法。

IPC (6)：

H01B 13/00 565 ,  C01G 1/00 ,  C23C 14/08 ,  C30B 23/08 ,  C30B 29/22 501 ,  H01B 12/06 ZAA