少なくとも一の両親媒性ブロックコポリマーと少なくとも一のカチオン性又は両性ポリマーを含有するシャンプー

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：園田吉隆 , 小林義教
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003157203
Publication number (International publication number)：2004002435
Application date： Jun. 02, 2003
Publication date： Jan. 08, 2004
Summary：

【課題】毛髪の好ましい手触り、滑らかさ及び光沢のある外観に有害な影響を与えることなく、毛髪のもつれのほぐれ易さを改善し、乾燥した毛髪にボリュームを付与し、ヘアスタイルの成形及び形状保持を容易にすることが可能な洗浄組成物を提供する。【解決手段】化粧品的に許容可能な水性又は水性/アルコール性媒体に、少なくとも一の疎水性ブロックと少なくとも一の親水性ブロックを有する少なくとも一の直鎖状のブロックコポリマーであって、エチレンオキシドとプロピレンオキシドのブロックコポリマー、ウレタン単位を有するブロックコポリマー、及びシロキサン単位を有するブロックコポリマーを除くコポリマーと、少なくとも一のカチオン性又は両性ポリマーと、少なくとも一の非イオン性界面活性剤及び/又は少なくとも一の両性界面活性剤と組合せての少なくとも一のアニオン性界面活性剤とを含有せしめる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

化粧品的に許容可能な水性又は水性/アルコール性媒体中に、・少なくとも一の疎水性ブロックと少なくとも一の親水性ブロックを有する少なくとも一の直鎖状のブロックコポリマーであって、エチレンオキシドとプロピレンオキシドのブロックコポリマー、ウレタン単位を含んでなるブロックコポリマー、及びシロキサン単位を含んでなるブロックコポリマーを除くブロックコポリマーと、・少なくとも一のカチオン性又は両性ポリマーと、・少なくとも一の非イオン性界面活性剤及び/又は少なくとも一の両性界面活性剤と組合せての少なくとも一のアニオン性界面活性剤と、を含有してなる、ケラチン繊維等のケラチン物質の洗浄用組成物。

IPC (11)：

A61K7/075 , C08F293/00 , C08F297/00 , C08G81/00 , C11D1/06 , C11D1/14 , C11D1/29 , C11D1/68 , C11D1/90 , C11D3/20 , C11D3/37

FI (11)：

A61K7/075 , C08F293/00 , C08F297/00 , C08G81/00 , C11D1/06 , C11D1/14 , C11D1/29 , C11D1/68 , C11D1/90 , C11D3/20 , C11D3/37

F-Term (70)：

4C083AB051 , 4C083AC531 , 4C083AC541 , 4C083AC711 , 4C083AC712 , 4C083AC782 , 4C083AC791 , 4C083AD011 , 4C083AD022 , 4C083AD041 , 4C083AD051 , 4C083AD071 , 4C083AD091 , 4C083AD092 , 4C083AD111 , 4C083AD131 , 4C083AD132 , 4C083AD151 , 4C083AD201 , 4C083AD211 , 4C083BB04 , 4C083BB05 , 4C083BB07 , 4C083BB34 , 4C083BB35 , 4C083BB36 , 4C083CC32 , 4C083CC33 , 4C083CC38 , 4C083DD23 , 4C083DD27 , 4C083EE06 , 4C083EE07 , 4C083EE25 , 4C083EE28 , 4H003AB05 , 4H003AB27 , 4H003AB31 , 4H003AC05 , 4H003AD02 , 4H003AD04 , 4H003BA12 , 4H003DA02 , 4H003EB28 , 4H003EB30 , 4H003ED02 , 4H003FA21 , 4J026HA08 , 4J026HA10 , 4J026HA11 , 4J026HA12 , 4J026HA38 , 4J026HA39 , 4J026HB03 , 4J026HB04 , 4J026HB09 , 4J026HB11 , 4J026HB14 , 4J026HB18 , 4J026HB38 , 4J026HB39 , 4J026HE01 , 4J026HE02 , 4J031AA12 , 4J031AA14 , 4J031AA15 , 4J031AA20 , 4J031AA22 , 4J031AB02 , 4J031AF03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平4-243812
洗浄用化粧品組成物とその用途
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-026868 Applicant：ロレアル
新規高分子およびこれを用いた化粧料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-105252 Applicant：株式会社資生堂

Show all

Return to Previous Page