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J-GLOBAL ID：200903008201016670
高周波誘導加熱における加熱温度制御方法及び高周波誘導加熱温度制御装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
奥山 尚男 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993082954
Publication number (International publication number)：1994295782
Application date： Apr. 09, 1993
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：
【要約】【目的】 被加熱体の加熱を高周波誘導加熱方式で行うに当たり、被加熱体の温度検出を接触式の熱電対温度センサ等を用いることなく、非接触方式にて正確に被加熱体の温度検出を行うことができ、耐久性の点でも優れた高周波誘導加熱における加熱温度制御方法及び高周波誘導加熱温度制御装置を提供する。【構成】 高周波誘導加熱コイル6を有する共振回路4を共振状態にし、この共振状態の下で被加熱体(例えば、触媒コンバータ9)の温度上昇に伴って変化する共振周波数f0 に基づいて前記被加熱体の加熱温度Tを制御する。
Claim (excerpt)：
高周波誘導加熱コイルを有する共振回路を共振状態にし、この共振状態の下で被加熱体の温度上昇に伴って変化する共振周波数に基づいて前記被加熱体の加熱温度を制御するようにしたことを特徴とする高周波誘導加熱における加熱温度制御方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
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特開昭62-110296
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特開昭48-066877
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特開昭63-198283
Cited by examiner (6)
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