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J-GLOBAL ID：200903008213754650

投影露光装置

Inventor： 加藤 欣也
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 山口 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995286431
Publication number (International publication number)：1997106077
Application date： Oct. 06, 1995
Publication date： Apr. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】 投影光学系中の屈折系の露光光吸収に起因する投影光学系の焦点位置の変動に対して合焦調整する。【解決手段】 投影光学系は、正屈折力を有する屈折系と、該屈折系と共軸に位置決めされた反射鏡とを有し、第1の基板を介した照明光学系からの光のうち反射鏡を透過した光を検出するための光検出手段と、光検出手段の出力に応じて第1の基板および第2の基板と投影光学系との合焦状態を調整するための調整手段とを備えている。

Claim (excerpt)：

パターンが形成された第1の基板を照明するための照明光学系と、前記第1の基板上に形成されたパターンの像を第2の基板上に形成するための投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系は、正屈折力を有する屈折系と、該屈折系と共軸に位置決めされた反射鏡とを有し、前記第1の基板を介した前記照明光学系からの光のうち前記反射鏡を透過した光を検出するための光検出手段と、前記光検出手段の出力に応じて前記第1の基板および前記第2の基板と前記投影光学系との合焦状態を調整するための調整手段とを備えていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (4)：

G03F 7/207 ,  G02B 7/28 ,  G03B 13/36 ,  H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/207 Z ,  G02B 7/11 M ,  G03B 3/00 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 516 E ,  H01L 21/30 517 ,  H01L 21/30 526 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭58-205156
  
• 特開昭63-054791