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J-GLOBAL ID:200903008226011699
ポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998358009
Publication number (International publication number):2000180618
Application date: Dec. 16, 1998
Publication date: Jun. 30, 2000
Summary:
【要約】【課題】 ポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタの製造において、フィルタ素子化するときの切断工程の段階で生じる光学薄膜とポリイミドフィルム基板との剥離を防ぐポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法の提供。また、種々の形状をとることのできるポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法の提供。【解決手段】 ポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタの製造方法は、表面の平滑な基板上にポリイミドフィルムを形成する工程と、該ポリイミドフィルムを、表面の平滑な基板から剥離し接着層を介して固い基板上に貼り付ける工程と、個別素子に分解するためにポリイミドフィルムから接着層に至る切断溝を形成する工程と、切断溝を形成したポリイミドフィルム上に光学薄膜を形成する工程と、前述の接着層を溶剤で溶解し分解することによって、複数のポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子を同時に固い基板から分離する工程と、を具える。
Claim (excerpt):
ポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法であって、表面の平滑な基板上にポリイミドフィルムを形成する工程と、前記ポリイミドフィルムを、前記表面の平滑な基板から剥離し接着層を介して固い基板上に貼り付ける工程と、個別素子に分割するために、前記ポリイミドフィルムから前記接着層に至る切断溝を形成する工程と、前記切断溝を形成したポリイミドフィルム上に光学薄膜を形成する工程と、前記接着層を溶剤で溶解し分解することによって、複数のポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子を同時に前記固い基板から分離する工程と、を具えることを特徴とするポリイミドフィルム基板光学薄膜フィルタ素子の製造方法。
IPC (3):
G02B 5/20
, B32B 7/02 103
, B32B 27/34
FI (3):
G02B 5/20
, B32B 7/02 103
, B32B 27/34
F-Term (14):
2H048AA05
, 2H048AA18
, 2H048AA27
, 4F100AB01
, 4F100AK49A
, 4F100BA02
, 4F100EH112
, 4F100EH66
, 4F100EJ013
, 4F100EJ261
, 4F100GB90
, 4F100JK06
, 4F100JM02B
, 4F100JN00B
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