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J-GLOBAL ID：200903008232275258

光学薄膜の形成方法及び光学薄膜を備えた光学素子

Inventor： 石沢 均 ,  村田 剛
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 川北 喜十郎
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2001007457
Publication number (International publication number)：WO2002018982
Application date： Aug. 30, 2001
Publication date： Mar. 07, 2002
Summary：

【要約】光学薄膜を基板上に形成する方法は、光学素子の微粒子が分散媒中に分散したゾル溶液を調製し、調製したゾル溶液を密閉可能な容器に入れ加熱加圧し、次いで、加熱加圧させたゾル溶液を光学基板に塗布する工程を含む。得られた薄膜は波長193nmの光に対して屈折率が1.16であり、透過損失が0.5%以下である。この光学薄膜が表面に形成された光学レンズ及びそのレンズを投影光学系または照明系に備える露光装置が提供される。

Claim (excerpt)：

光学薄膜の形成方法であって、 微粒子が分散媒中に分散したゾル溶液を調製する第1工程と; 第1工程で得られたゾル溶液を、加熱及び加圧の少なくとも一方を行う第2工程と; 第2工程で得られたゾル溶液を、光学基板に塗布する工程とを含む方法。

IPC (2)：

G02B 1/11 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G02B 1/10 A ,  H01L 21/30 515 D