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J-GLOBAL ID：200903008233198478

光学式マイクロリソグラフィ用位置合せシステム

Inventor： クリストファー・ジョン・プログラー ,  アラン・エドワード・ローゼンブルート
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993066899
Publication number (International publication number)：1994020907
Application date： Mar. 25, 1993
Publication date： Jan. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 位置合せ精度が高いマイクロリソグラフィ用の位置合せシステムを提供することである。【構成】 共焦点空間フィルタ・システムが、位置合せマーク以外の表面形状フィーチャを区別する。CCD検出器アレイが、光学システムに合致した画素の重み付けにより、柔軟性のある共焦点フィルタを実現する。フィルタの実験的最適化により、CCDアレイの重みを付け直し、測定されたオーバーレイ結果に相関させる。これによって、システムの実証済みの工程に対する非感受性が向上するだけでなく、解像度が改善され、共焦点結像のノイズ拒絶も達成される。

Claim (excerpt)：

a)逆暗視野構成と、b)共焦点空間フィルタ手段とを備え、それによって光学信号が改善され、位置合せの外れが減少して、共焦点暗視野位置合せシステムを実現する、マイクロリソグラフィ位置合せシステム。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭63-082304
  
• 特開平2-122517
  
• 特開昭62-216231
  
• 特開昭63-229816
  
• 特開昭59-076425