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J-GLOBAL ID：200903008253754580

プラズマ処理方法及び装置

Inventor： 斉藤 光央 ,  奥村 智洋 ,  寺内 正治 ,  朝山 純子
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (3)： 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003384933
Publication number (International publication number)：2005144318
Application date： Nov. 14, 2003
Publication date： Jun. 09, 2005
Summary：

【課題】PDP用青色蛍光体におけるy値シフト抑制と、輝度維持率低下の抑制を両立を実現できるプラズマ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】大気圧プラズマ処理装置は、一端にガス供給装置6と連結可能なガス供給口1を有し、他端に被処理物8に対してガスを噴出させることの可能なガス噴出口2を有する、2つ以上の開口部と1系統以上の内部ガス流路3を有する絶縁体容器4を備え、且つ絶縁体容器4の周囲に電力供給装置7と連結可能な対向電極5a、5bを備えたプラズマ処理装置において、絶縁体容器4内部のガス流路3が、対向電極5a、5bを備えた位置よりガス噴出口2までの間で、少なくとも1箇所を湾曲若しくは屈曲されているプラズマ処理装置である。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

一端にはガス供給装置と連結可能なガス供給口を有し、他端にはガスを噴出させるガス噴出口を備え2つ以上の開口部と1系統以上の内部ガス流路を有する絶縁体容器を備え、前記絶縁体容器の周囲に電力供給装置と連結可能な対向電極を備えたプラズマ処理装置において、前記絶縁体容器の内部のガス流路が、対向電極を備えた位置からガス噴出口までの間で、少なくとも1箇所を湾曲若しくは屈曲されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2)：

B01J19/08 ,  H05H1/24

FI (2)：

B01J19/08 E ,  H05H1/24

F-Term (25)：

4G075AA03 ,  4G075AA30 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA51 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EC01 ,  4G075EC21 ,  4G075EE02 ,  4G075FC15 ,  4H001CC02 ,  4H001CC03 ,  4H001CC04 ,  4H001XA08 ,  4H001XA12 ,  4H001XA13 ,  4H001XA56 ,  4H001YA63 ,  4K030EA05 ,  4K030FA03 ,  4K030JA03 ,  4K030JA09 ,  4K030KA17 ,  4K030LA11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特許第3221008号公報