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J-GLOBAL ID：200903008267842040

放射線感受性組成物の光重合可能な成分の改良またはそれに関する改良

Inventor： ジョン ロバート ウェイド ,  マイケル ジョン プラット ,  ジャンロン レン
Applicant, Patent owner： デュ ポン(ユー.ケイ.)リミテッド
Agent (1)： 山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993008665
Publication number (International publication number)：1994093193
Application date： Jan. 21, 1993
Publication date： Apr. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】放射線感受性組成物に有用な光重合可能な化合物、およびそのような化合物の効率的な合成方法を提供する。【構成】一般式(1)を有するポリ不飽和化合物:【化1】ここで、【化2】は、式【化3】で表される活性水素含有化合物の残基を表し、XHは、ヒドロキシル基、メルカプト基または第一級もしくは第二級アミノ基であり;rは、単純な分子に関しては1から10の範囲の整数であり、ポリマー性高分子に関しては1から10,000の範囲の整数であり;Zは、ポリイソシアナートOCN-Z-(NCO)nの残基であり、nは、1または2であり;そして、Yは、式YOHで表されるモノヒドロキシル化合物の残基であり、Yは、少なくとも2つのエチレン性不飽和二重結合を含有する。

Claim (excerpt)：

一般式(1)を有するポリ不飽和化合物:【化1】ここで、【化2】は、式【化3】で表される活性水素含有化合物の残基を表し、XHは、ヒドロキシル基、メルカプト基または第一級もしくは第二級アミノ基であり;rは、単純な分子に関しては1から10の範囲の整数であり、ポリマー性高分子に関しては1から10,000の範囲の整数であり;Zは、ポリイソシアナートOCN-Z-(NCO)nの残基であり、nは、1または2であり;そして、Yは、式YOHで表されるモノヒドロキシル化合物の残基であり、Yは、少なくとも2つのエチレン性不飽和二重結合を含有する。

IPC (5)：

C08L101/02 LTB ,  G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 507 ,  G03F 7/008 ,  G03F 7/028

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特許第4458007号