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J-GLOBAL ID：200903008267981600

化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いる酸発生剤

Inventor： 羽田 英夫 ,  山崎 浩幸 ,  菅田 祥樹 ,  駒野 博司 ,  石川 清
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996171108
Publication number (International publication number)：1997230588
Application date： Jul. 01, 1996
Publication date： Sep. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 酸発生剤としてシアノ基をもつオキシムスルホネート化合物を用い、しかも高耐熱性、高解像性及び高感度を有するとともに、定在波の影響を受けにくく、優れた形状のレジストパターンを与えるポジ型及びネガ型の化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)酸解離性置換基で保護された水酸基をもつ重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)比3.5以下のアルカリ可溶性樹脂及び(B)一般式【化1】(式中のR1は芳香族性基、R2は低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基である)で表わされるオキシムスルホネート化合物から成る酸発生剤を含有したポジ型の化学増幅型レジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)酸解離性置換基で保護された水酸基をもつ重量平均分子量/数平均分子量(Mw/Mn)比3.5以下のアルカリ可溶性樹脂及び(B)一般式【化1】(式中のR1は芳香族性基、R2は低級アルキル基又はハロゲン化低級アルキル基である)で表わされるオキシムスルホネート化合物から成る酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型の化学増幅型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/004 503 ,  C09K 3/00 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 503 ,  C09K 3/00 K ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R