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J-GLOBAL ID:200903008305011084

ガス制御装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小川 勝男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994182148
Publication number (International publication number):1995166376
Application date: Oct. 29, 1982
Publication date: Jun. 27, 1995
Summary:
【要約】【目的】本発明の目的は真空槽にガスを供給する装置において、ガス流量およびガス圧力をより短時間で安定化する装置構成を提供することにある。【構成】容器内へのガス流量を所定値に保持するための可変バルブ(2)と、ガスの容器内への供給と停止との切り換えをするためのバルブ(3)と、ガスをその通過経路の途中から分岐させて系外へ排気させるためのガス排出手段(5)と、ガスの系外への排出と排出停止との切り換えをするためのバルブ(10)とにより構成される。【効果】真空槽内にガスを供給する装置において、ガス圧力調整の時間を短縮できる。
Claim (excerpt):
減圧可能な容器内に前記容器外からガス供給手段を介してガスを供給するためのガス制御装置において、前記ガスの供給源から前記容器に至るガス供給手段の経路の途中には前記ガス供給手段を通過するガスの流量を所定値に保持するための可変バルブと、前記ガスを前記容器内へ供給可能とするモードとその供給を停止するモードとの切り換えを可能とするための第一のバルブとが設けられ、かつ、前記第一のバルブは前記可変バルブに対して前記ガスの流れの方向の下流側に配置され、前記可変バルブが設けられた部位と前記第一のバルブが設けられた部位との間の区間には前記可変バルブの側から供給される前記ガスを前記ガス供給手段の前記ガスの通過経路の途中から分岐させて系外へ強制的に排出させるためのガス排出手段が接続され、前記ガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には前記ガスを前記系外へ排出可能とするモードとその排出を停止するモードとの切り換えを可能とするための第二のバルブが設けられ、前記容器を減圧するための第1の排気ポンプと前記ガス排出手段の一部を構成する第2の排気ポンプとは互いに独立に動作させることが可能に構成されていることを特徴とするガス制御装置。
IPC (3):
C23F 4/00 ,  B01J 3/02 ,  H01L 21/3065
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開昭57-029577
  • 特公昭45-002087
  • 特公昭47-028597

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