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J-GLOBAL ID：200903008313659069

光学異方体の製造方法

Inventor： 長谷部 浩史 ,  高津 晴義
Applicant, Patent owner： 大日本インキ化学工業株式会社
Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994154574
Publication number (International publication number)：1996021915
Application date： Jul. 06, 1994
Publication date： Jan. 23, 1996
Summary：

【要約】【構成】 (1)導電層を有する第1の透明性基板と、導電性を有する第2の基板の間に重合性液晶組成物を介在させる第1工程、(2)前記2枚の基板間に電圧を印加しながら、第1の透明性基板の側から光を照射する第2工程、及び(3)第1の透明性基板及び第2の基板を剥離する第3工程を有する光学異方体の製造方法。【効果】 この製造方法は、光照射時に電圧を印加することにより、従来のような煩わしい基板の配向処理を施す場合に比べて、重合性液晶組成物を容易に垂直配向させることができる。従って、本発明の製造方法は、厚み方向の屈折率が面内の屈折率より大きなフィルム状の光学異方体及び光学異方性を有する基板の製造方法として、極めて有用である。

Claim (excerpt)：

(1)導電層を有する第1の透明性基板と、導電性を有する第2の基板の間に重合性液晶組成物を介在させる第1工程、(2)前記2枚の基板間に電圧を印加しながら、第1の透明性基板の側から光を照射する第2工程、及び(3)第1の透明性基板及び第2の基板を剥離する第3工程を有する光学異方体の製造方法。

IPC (4)：

G02B 5/30 ,  C09K 19/38 ,  G02F 1/13 500 ,  G02F 1/1337

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 液晶素子および表示装置、それを用いた表示方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-319638   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開昭58-102205