ポジチブ処理感放射線混合物およびレリーフパターン形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：田代烝治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992293332
Publication number (International publication number)：1993265214
Application date： Oct. 30, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】良好なレリーフパターンをもたらすことができるポジチブ処理感放射線混合物を提供する。【構成】 (a1)酸に不安定なエーテル基等、を有し、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る、水に不溶性の有機結合剤、あるいは(a2)水に不溶性であるがアルカリ水溶液に可溶性のポリマー結合剤と、(a2.1)アルカリ水性現像液に対する溶解性が酸の作用により増大せしめられる有機化合物、あるいは(a2.2)1個もしくは複数個の酸裂開基およびさらに放射線作用下に酸を形成する基を有し、アルカリ水性現像液に対する溶解性が酸の作用により増大せしめられる有機化合物、あるいは有機化合物(a2.1)および(a2.2)の混合物および(b)アリルスルホン酸エステルを含有する、レリーフパターンを形成するのに適する、ポジチブ処理感放射線混合物。

Claim (excerpt)：

(a1)酸に不安定なエーテル基、エステル基あるいはカーボネート基を有し、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る、水に不溶性の有機結合剤、あるいは(a2)水に不溶性であるがアルカリ水溶液に可溶性のポリマー結合剤と、(a2.1)アルカリ水性現像液に対する溶解性が酸の作用により増大せしめられる有機化合物、あるいは(a2.2)1個もしくは複数個の酸裂開基およびさらに放射線作用下に酸を形成する基を有し、アルカリ水性現像液に対する溶解性が酸の作用により増大せしめられる有機化合物、あるいは有機化合物(a2.1)および(a2.2)の混合物と、(b)放射線作用下に酸を形成する有機化合物とを含有するポジチブ処理感放射線混合物であって、上記有機化合物(b)として、以下の式(I)Ar-SO2 -O-R (I)で表わされ、ArがフェニルあるいはニトロフェニルあるいはC1 -C4 アルキル、C1 -C4 アルコキシあるいはハロゲンでモノ置換、ジ置換あるいはトリ置換されているフェニルを意味し、RがC1 -C12アルキル、炭素原子数が12より多くないシクロアルキル、アリールあるいはアリールアルキル、あるいはアルキル、アルコキシあるいはハロゲンでモノ置換あるいはポリ置換されており、炭素原子数が12より多くないアルキル、シクロアルキル、アリールあるいはアリールアルキルを意味し、あるいはArがRと共に非置換のもしくは置換された5員もしくは6員環を形成するアリールスルホン酸エステルが使用されていることを特徴とする混合物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開平3-223857
特開平3-223862
特開平3-223864

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