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J-GLOBAL ID:200903008347335971

電子ビーム加工機

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 高橋 祥泰 ,  岩倉 民芳
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002335552
Publication number (International publication number):2004167536
Application date: Nov. 19, 2002
Publication date: Jun. 17, 2004
Summary:
【課題】サイクルタイムを短縮することができる電子ビーム加工機を提供すること。【解決手段】電子ビーム加工機1は,被加工物8を収容する複数の加工室21,22と,各加工室21,22に収容した被加工物8に電子ビームを照射する電子銃23と,各加工室21,22内の真空引きを行うための真空装置3とを有している。電子銃23は,各加工室21,22の気密状態を維持しながら各加工室21,22の間を移動可能に設けてある。真空装置3は,各加工室21,22の真空引きをそれぞれ別個に行うことができるよう構成してある。電子ビーム加工機1は,被加工物8を収容した加工室21又は22へ電子銃23が移動している間に,当該加工室21又は22の真空引きを開始できるよう構成してある。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
真空状態において被加工物に電子ビームを照射して電子ビーム加工を行う電子ビーム加工機において, 該電子ビーム加工機は,上記被加工物を収容する複数の加工室と,該加工室に収容した被加工物に電子ビームを照射する電子銃と,上記加工室内の真空引きを行うための真空装置とを有しており, 上記電子銃は,上記各加工室の気密状態を維持しながら該各加工室の間を移動可能に設けてあり, 上記真空装置は,上記各加工室の真空引きをそれぞれ別個に行うことができるよう構成してあり, 上記被加工物を収容した上記加工室へ上記電子銃が移動している間に,当該加工室の真空引きを開始できるよう構成してあることを特徴とする電子ビーム加工機。
IPC (2):
B23K15/06 ,  B23K15/00
FI (3):
B23K15/06 ,  B23K15/00 501D ,  B23K15/00 502
F-Term (4):
4E066BD05 ,  4E066BE05 ,  4E066BE06 ,  4E066BE08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-028485

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