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J-GLOBAL ID:200903008348125121

高機能被膜形成基体、及び該基体の形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 安富 耕二 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998265389
Publication number (International publication number):2000094564
Application date: Sep. 18, 1998
Publication date: Apr. 04, 2000
Summary:
【要約】【課題】 従来、高硬度性、及び清浄(抗菌)作用の双方の特性を備えた基体、特に刃を搭載したシェーバーが開発されていなかった。【解決手段】 母材の一方の主面に光触媒反応による抗菌作用を持つ被膜が形成され、他方の主面に硬質炭素被膜が形成されていることを特徴とする。
Claim (excerpt):
母材の一方の主面に光触媒反応による清浄作用を持つ被膜が形成され、他方の主面に硬質被膜が形成されていることを特徴とする高機能被膜形成基体。
IPC (10):
B32B 7/02 ,  A01N 59/16 ,  B26B 19/00 ,  B26B 21/60 ,  C23C 14/06 ,  C23C 16/26 ,  F16C 33/12 ,  F16C 33/16 ,  F16C 33/24 ,  C23C 16/517
FI (10):
B32B 7/02 ,  A01N 59/16 ,  B26B 19/00 B ,  B26B 21/60 ,  C23C 14/06 P ,  C23C 16/26 Z ,  F16C 33/12 Z ,  F16C 33/16 ,  F16C 33/24 A ,  C23C 16/50 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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