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J-GLOBAL ID：200903008377039242

低反射積層体の製造方法

Inventor： 竹村 徹 ,  谷田部 俊明
Applicant, Patent owner： 帝人株式会社
Agent (1)： 前田 純博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992338857
Publication number (International publication number)：1994186401
Application date： Dec. 18, 1992
Publication date： Jul. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】広い波長範囲にわたって反射率を低く抑え、かつ透過率も高い低反射積層体を生産性良く得る。【方法】基板上に高屈折率層と低屈折率層とを設けて構成した低反射積層体において、高屈折率層はチタニウムアルコキシドおよび/またはジルコニウムアルコキシドによる塗液を、基板上に塗布した上で加水分解して形成し、低屈折率層は直径1〜100nmの二酸化ケイ素微粒子100重量部と有機ケイ素化合物5〜50重量部とを含有する塗液を、高屈折率層上に塗布した上で加水分解して形成する。より好ましくは、基板にリターデーションが30nm以下の透明な有機重合体フィルムを用いる

Claim (excerpt)：

有機重合体フィルムよりなる基板の少なくとも一方の面上に、基板より屈折率の高い高屈折率層と基板より屈折率の低い低屈折率層とをこの順に設け、その際に高屈折率層と低屈折率層との膜厚は光干渉効果によって光の反射率が低くなるように選択して構成した低反射積層体の製造方法において、高屈折率層はチタニウムアルコキシドおよび/またはジルコニウムアルコキシドによる塗液を、基板上に塗布した上で加水分解して形成し、低屈折率層は直径1〜100nmの二酸化ケイ素微粒子100重量部と有機ケイ素化合物5〜50重量部とを含有する塗液を、高屈折率層上に塗布した上で加水分解して形成することを特徴とする低反射積層体の製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-256002
  
• 特開昭60-242401
  
• 特開昭62-231201