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J-GLOBAL ID:200903008379476755
情報記録ディスク用成膜装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
保立 浩一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998050191
Publication number (International publication number):1999229150
Application date: Feb. 16, 1998
Publication date: Aug. 24, 1999
Summary:
【要約】【課題】 保護膜作成チャンバー内のパーティクル発生を効果的に防止した構成を有する情報記録ディスク用成膜装置を提供する。【解決手段】 記録用の磁性膜の上に保護膜を作成する保護膜作成チャンバー6では、CH4 等の炭化水素化合物ガスのプラズマ化学蒸着によってカーボンよりなる保護膜が作成される。保護膜作成チャンバー6内には酸素ガスが導入されるようになっており、内部の露出面に堆積したカーボン膜は酸素プラズマによってアッシングされ、排気系61によって除去される。基板9を保持したキャリア90は、アッシングの際に退避チャンバー7に退避する。このため、基板9の表面が酸素プラズマによって損傷を受けることがない。
Claim (excerpt):
基板の表面に記録用の磁性膜を作成した後にこの磁性膜の上にカーボンよりなる保護膜を作成して情報記録ディスクを製作する情報記録ディスク用成膜装置であって、前記保護膜を作成する保護膜作成チャンバーを備えており、この保護膜作成チャンバーは、内部を排気する排気系と、内部に酸素ガスを導入する酸素ガス導入系と、導入された酸素ガスにエネルギーを与えてプラズマを形成するプラズマ形成手段とを有しており、保護膜作成チャンバー内の前記基板以外の露出面に堆積したカーボンの膜をアッシングして除去することが可能となっていることを特徴とする情報記録ディスク用成膜装置。
IPC (5):
C23C 16/44
, C23C 16/26
, G11B 5/72
, G11B 5/82
, G11B 5/84
FI (5):
C23C 16/44 J
, C23C 16/26
, G11B 5/72
, G11B 5/82
, G11B 5/84 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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デイスク基板用プラズマ処理装置およびその処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-304763
Applicant:株式会社日立製作所
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プラズマ気相成長装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-133489
Applicant:日本電気株式会社
-
インライン式成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-099648
Applicant:アネルバ株式会社
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プラズマ成膜装置およびそのクリーニング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-086262
Applicant:シチズン時計株式会社
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特開平1-201099
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