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J-GLOBAL ID：200903008411782375
炭素薄膜の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
藤井 信行
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994030107
Publication number (International publication number)：1995257915
Application date： Feb. 28, 1994
Publication date： Oct. 09, 1995
Summary：
【要約】【目的】 本発明は分子レベルで構造制御が可能な高配向性炭素薄膜を得ることを目的とする。【構成】 カチオン基を有する重合体と層状粘土鉱物とを含有する展開液を調製し、該展開液を基板表面に展開した後、前記基板上の液膜から溶媒を除去した複合膜に対して、重合物の炭素化を行う熱処理を施した後、層状粘土鉱物を酸或はアルカリ処理によって抽出することを特徴とする炭素薄膜の製造方法。
Claim (excerpt)：
カチオン基を有する重合体と層状粘土鉱物とを含有する展開液を調製し、該展開液を基板表面に展開した後、前記基板上の液膜から溶媒を除去した複合膜に対して、重合物の炭素化を行う熱処理を施した後、層状粘土鉱物を酸或はアルカリ処理によって抽出することを特徴とする炭素薄膜の製造方法。
IPC (2)：
C01B 31/02 101
, C01B 31/04 101
