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J-GLOBAL ID：200903008440486858

熱処理装置のシャワーヘッド構造

Inventor： 田中 澄 ,  中塚 栄 ,  立花 光博
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997290504
Publication number (International publication number)：1999111626
Application date： Oct. 07, 1997
Publication date： Apr. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】 パーティクルの発生を抑制することができる熱処理装置のシャワーヘッド構造を提供する。【解決手段】 被処理体Wに所定の熱処理を施す処理容器20の天井部70に設けられた熱処理装置のシャワーヘッド構造において、処理ガスを導入するガス導入ポート79を有して下端が開放された中空状のシャワーヘッド本体74と、このシャワーヘッド本体の下端の開放部80を閉じるように設けられると共に前記処理ガスを放出する複数のガス噴射孔86を有するシャワーヘッド蓋体84と、前記シャワーヘッド本体の下端部に設けられて前記シャワーヘッド蓋体を保持するカラー部材82とを備えるようにする。これにより、シャワーヘッド本体とシャワーヘッド蓋体とが直接接触することをなくし、熱伸縮に伴なうパーティクルの発生を抑制する。

Claim (excerpt)：

被処理体に所定の熱処理を施す処理容器の天井部に設けられた熱処理装置のシャワーヘッド構造において、処理ガスを導入するガス導入ポートを有して下端が開放された中空状のシャワーヘッド本体と、このシャワーヘッド本体の下端の開放部を閉じるように設けられると共に前記処理ガスを放出する複数のガス噴射孔を有するシャワーヘッド蓋体と、前記シャワーヘッド本体の下端部に設けられて前記シャワーヘッド蓋体を保持するカラー部材とを備えたことを特徴とする熱処理装置のシャワーヘッド構造。

IPC (3)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31

FI (3)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/31 B