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J-GLOBAL ID:200903008494896679

断層撮影装置の校正方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉谷 勉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001259971
Publication number (International publication number):2003061944
Application date: Aug. 29, 2001
Publication date: Mar. 04, 2003
Summary:
【要約】【課題】 複数台の断層撮影装置にわたる性能のバラツキを解消する断層撮影装置の校正方法を提供する。【解決手段】 この発明は、X線管と、高吸収体で形成された2個の微小球からなる校正用ファントムを挟んでX線管と対向配置したX線検出器とを平行平面上で同期させて回転断層軸周りに一周走査し、X線検出器Dに投影された2個の微小球の積算投影像Gを得る。そして、この投影像Gのそれぞれから中心点Pを求め、直線で結んで回転断層軸の投影線Z'を求める。さらに、この求まった投影線Z'にX線検出器Dの所定の画素列Hが投影線Z'と一致するようにX線検出器Dの移動調整を行う。
Claim (excerpt):
天板に載置した被検体に向けて透過性を有する電磁波を末広がりビーム形状にして照射する照射手段と、被検体を挟んで前記照射手段に対向配置され、被検体を透過した電磁波を検出するようにアレイ配列された複数画素を備えた面検出器とを、被検体の関心領域のほぼ中心に設定される回転断層軸周りに同期させて平行平面上で回転走査する走査手段とを備えた断層撮影装置の校正方法であって、前記天板に校正用ファントムを載置して前記照射手段と前記面検出器とを一周走査し、このときに得られる積算投影像から回転断層軸の投影線を求め、この求まった投影線に対して面検出器の所定の画素列が一致するように、面検出器を移動調整することを特徴とする断層撮影装置の校正方法。
IPC (4):
A61B 6/00 390 ,  A61B 6/02 300 ,  A61B 6/02 303 ,  G01N 23/04
FI (4):
A61B 6/00 390 A ,  A61B 6/02 300 C ,  A61B 6/02 303 A ,  G01N 23/04
F-Term (24):
2G001AA01 ,  2G001AA02 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001DA09 ,  2G001FA06 ,  2G001GA04 ,  2G001HA13 ,  2G001JA00 ,  2G001JA06 ,  2G001JA08 ,  2G001PA12 ,  4C093AA11 ,  4C093CA05 ,  4C093EA02 ,  4C093EB17 ,  4C093EB21 ,  4C093FC27 ,  4C093FC28 ,  4C093GA01 ,  4C093GA02 ,  4C093GA03

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