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J-GLOBAL ID:200903008495159953

研磨治具及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 澤 喜代治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997254033
Publication number (International publication number):1999058224
Application date: Aug. 12, 1997
Publication date: Mar. 02, 1999
Summary:
【要約】【目的】 本発明は、研磨治具において、その表面には超高分子量ポリエチレン層が形成されてなることにより、この超高分子量ポリエチレン層によって表面の滑り性が向上し、その結果、摩耗量が著しく低下し、表面平滑性が長期間にわたって維持されるので、チッピングの発生を長期間にわたって防止することができるのであり、又、耐用期間が至極長くなる上、研磨品の研磨精度が高く、研磨効率が良好な研磨治具及びその製造方法とを提供することを目的とする。【構成】 本発明は、シリコンウェハ、液晶用ガラスなどの薄板状のワークを研磨する際に用いられる研磨治具において、その表面には超高分子量ポリエチレン層が形成されてなることを特徴とする。
Claim (excerpt):
シリコンウェハ、液晶用ガラスなどの薄板状のワークを研磨する際に用いられる研磨治具において、その表面には超高分子量ポリエチレン層が形成されてなることを特徴とする研磨治具。
IPC (2):
B24B 37/04 ,  H01L 21/304 321
FI (2):
B24B 37/04 C ,  H01L 21/304 321 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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