化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び(メタ)アクリル酸誘導体とその製法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：久保山隆 , 中山亨 , 榎本雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005050664
Publication number (International publication number)：2005331918
Application date： Feb. 25, 2005
Publication date： Dec. 02, 2005
Summary：

【課題】 ArFエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で示される繰り返し単位(Xは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル又は炭素数1〜4のペルフルオロアルキルを示す。Yは、記載の炭素原子とともに脂環式炭化水素基を完成するのに必要な複数の原子を示す。Zは、炭素数1〜12の2価の炭化水素基を示す。Rは、炭素数1〜6のアルキル又は炭素数3〜12の脂環式炭化水素基を示す。)と式(II)〜(V)で示される繰り返し単位からなる群から選ばれた少なくとも一つの繰り返し単位とを有する樹脂及び酸発生剤を含む感放射線組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

式(I)で示される繰り返し単位

IPC (3)：

G03F7/039 , C08F20/10 , H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 , C08F20/10 , H01L21/30 502R

F-Term (30)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 4J100AL03P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA02R , 4J100BA11R , 4J100BA15P , 4J100BC02P , 4J100BC03P , 4J100BC04P , 4J100BC08P , 4J100BC09P , 4J100BC12P , 4J100BC49P , 4J100BC53Q , 4J100FA03 , 4J100FA19 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

レジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-014064 Applicant：日本電気株式会社

Cited by examiner (1)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-133816 Applicant：JSR株式会社

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