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J-GLOBAL ID：200903008525025426

露光装置及び露光方法

Inventor： 柳原 政光
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 平木 祐輔 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997332578
Publication number (International publication number)：1999168043
Application date： Dec. 03, 1997
Publication date： Jun. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】 投影光学系同士の位置合わせを容易に行うことのできる露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】 露光装置製造段階での投影光学系10,30の位置合わせ公差を予め見込み、それを補う投影光学系、照明フィールド、マスク可動手段及びマスクブラインドのストロークの拡大を実施し、投影光学系の位置誤差をマスク24,44及びマスクブラインド20,40の位置シフトによって補正する。マスク24,44の位置検出は、基板ステージ50に設けた基準マークFM1,FM2をマスクアライメント系27,28;47,48で検出することで行う。

Claim (excerpt)：

少なくとも2つのマスクのパターンを基板上に露光する露光装置において、第1のマスクの位置を検出する第1検出装置と、第2のマスクの位置を検出する第2検出装置と、前記第1検出装置と前記第2検出装置との検出結果に基づいて、前記第1のマスクと前記第2のマスクとの少なくとも一方の位置を調整する位置調整装置と、前記第1のマスクと前記第2のマスクとをほぼ同時に照明する照明光学系とを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (5)：

H01L 21/30 514 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 E ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 527