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J-GLOBAL ID：200903008592899511

ステージ制御装置の設計方法、露光装置、及びデバイス製造方法

Inventor： 楊 暁峰
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 前田 均 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002063202
Publication number (International publication number)：2003263227
Application date： Mar. 08, 2002
Publication date： Sep. 19, 2003
Summary：

【要約】【課題】 ステージを数学モデル化することなく、ステージの実測データから簡単に設計することができるとともに、実際のステージを正確に制御することができるステージ制御装置の設計方法を提供する。【解決手段】 ステージの周波数特性を示す実測データを得る工程(S10)と、実測データに基づいて、所定の周波数における目標値の比例ゲインを設定する工程(S14)と、所定の周波数での補償すべき位相進み量を設定し、位相進み量及び所定の周波数から伝達関数を求めてステージの位相進み量を補償する位相進み補償器を設計する工程と(S16,S18)、設定した位相進み量及び所定の周波数に応じて積分ゲインを設定し、伝達関数を求めて目標値に与えるゲインを補償するPI補償器を設計する工程(S20)と位相進み補償器及びPI補償器を含む閉ループを形成する工程(S22、S26,S26)とを有する。

Claim (excerpt)：

移動可能に支持されたステージを制御するステージ制御装置の設計方法において、前記ステージに対して目標値を与え、前記ステージの周波数特性を示す実測データを得る実測データ取得工程と、前記実測データに基づいて、所定の周波数における前記目標値の比例ゲインを設定する比例ゲイン設定工程と、前記所定の周波数での補償すべき位相進み量を設定し、当該位相進み量及び前記所定の周波数から伝達関数を求めて前記ステージの位相進み量を補償する第1補償器を設計する第1設計工程と、前記第1設計工程で設定した位相進み量及び前記所定の周波数に応じて積分ゲインを設定し、当該積分ゲイン及び前記比例ゲインから伝達関数を求めて前記目標値に与えるゲインを補償する第2補償器を設計する第2設計工程と、前記第1補償器及び前記第2補償器を含む閉ループを形成する閉ループ形成工程とを有することを特徴とするステージ制御装置の設計方法。

IPC (4)：

G05D 3/12 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G05D 3/12 S ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 B

F-Term (12)：

5F046CC13 ,  5F046CC17 ,  5H303AA06 ,  5H303CC06 ,  5H303DD04 ,  5H303DD10 ,  5H303DD22 ,  5H303GG13 ,  5H303HH02 ,  5H303KK02 ,  5H303KK03 ,  5H303KK04